Ключ. слова: реактивное распыление, магнетрон, оптическое излучение плазмы, пленки TiN, пленки TiO2.
Індекс рубрикатора НБУВ: З848.43-01

Рубрики:

Магнетронні радіопередавачі

Шифр НБУВ: Ж14479 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Спроектирована и изготовлена исследовательская многофункциональная вакуумная установка для изучения физических принципов работы устройств ионного травления, распыления внутри вакуумной рабочей камеры и разработки необходимых технологических процессов. Установка позволяет осуществлять поочередно или одновременно оба процесса - вакуумно-плазменное травление и осаждение покрытия на рабочие поверхности длинномерных изделий.

Освещена проблема напыления длинномерных и крупногабаритных изделий в машиностроении, которая вызывает необходимость создания протяженных источников плазмы. Рассмотрены примеры разработок протяженных цилиндрических испарителей импульсного действия, их преимущества и недостатки. Предложен новый протяженный цилиндрический катодно-дуговой источник плазмы с непрерывным регулируемым режимом горения дуги и показаны его конструктивные особенности. Испытаны модификации испарителей с длиной катода 500 и 1550 мм.

Представлены результаты электронно-микроскопических исследований размеров кристаллитов и морфологии поверхности плёнок ниобия и железа, осажденных в вакууме из частично ионизированного потока пара. Показано, что с увеличением энергии ионов и интенсивности ионного потока средний размер зерна в пленках Nb и Fe увеличивается. Распределение зерен по размерам (в плоскости подложки) для пленок Fe смещается в сторону больших зерен и может быть бимодальным. Происходит увеличение среднего, наиболее вероятного и максимального размеров зерна. Сравнение микрорельефа поверхности пленок, осажденных из ионизированного потока и осажденных электронно-лучевым испарением (ЭЛИ), показывает, что изменения формы зерен, их размеров и морфологии поверхности в целом, вызванные ионной бомбардировкой собственными ионами в процессе роста, отличаются от изменений, вызываемых повышением температуры подложки при ЭЛИ.

Исследованы алмазоподобные пленки, специально приготовленные при различных технологических условиях. Введен параметр ρ, называемый поляризационной разностью. Из спектральных характеристик параметра ρ обнаружено, что взаимодействие электромагнитного излучения с электронной системой образцов, которое происходит в используемом спектральном диапазоне, состоит из двух поверхностных резонансов - локального и поляритонного, различающихся частотой и временем релаксации. Сделан вывод о том, что соотношение амплитуд резонансов определяется структурными свойствами образцов, что свидетельствуют о перспективности метода модуляционной поляриметрии для диагностики структурной однородности композитных нанокластерных пленок.

Досліджено алмазоподібні плівки, спеціально приготовлені за різних технологічних умов. Запропоновано параметр ρ, що названий поляризаційною різницею. Зі спектральних характеристик параметра ρ виявлено, що взаємодія електромагнітного випромінювання з електронною системою зразків, яке відбувається у використовуваному спектральному діапазоні, складається з двох поверхневих резонансів - локального та поляритонного, що різняться частотою та часом релаксації. Зроблено висновок, що співвідношення амплітуд резонансу визначається структурними властивостями зразків, що свідчить про перспективність методу модуляційної поляриметрії для діагностики структурної однорідності композитних нанокластерних плівок.

This article presents research results on diamond-like films produced under different technological conditions. The parameter ρ - polarization difference - has been introduced. It has been found from spectral features of the parameter ρ that the interaction of electromagnetic radiation with the electronic system of specimens, which occurs in the used spectral range, consists of local and polariton surface resonances, differing in frequencies and times of relaxations. The autors concluded that the correlation in resonance intensity is defined by the structural characteristics of the specimens. These results show that modulation polarimetry is a perspective technique for diagnostics of the structural homogeneity of composite nanocluster films.

Індекс рубрикатора НБУВ: К663.235.6-18

Рубрики:

Покриття металів титаном

Шифр НБУВ: Ж14161 Пошук видання у каталогах НБУВ 

Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе "Алмаз", разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряда и параметрах основного нагревателя. Установлено, что в условиях данного исследования при температурах подложки выше 600 °С влияние ВЧ-разряда на повышение ее температуры практически отсутствует.

Досліджено вплив на температуру підкладки параметрів ВЧ-розряду в плазмохімічному реакторі "Алмаз", розробленому та виготовленому в Інституті ядерних досліджень. Встановлено час виходу на рівноважне значення температури підкладки за різних параметрів ВЧ-розряду та параметрів основного нагрівача. Встановлено, що в умовах цього дослідження за температур підкладки вище 600 °С вплив ВЧ-розряду на підвищення її температури практично відсутній.

The paper presents the research results on the device for obtaining diamond-like films from gas phase, constructed and tested in the Institute for Nuclear Research of the National Academy of Sciences. The device is based on a high-frequency (HF) discharge (13,56 MHz) into controlled crossed magnetic and electric fields. The discharge is excited in H{\dn\fs8 2}+CH{dn\fs8 4} or H{\dn\fs8 2}+CH{\dn\fs8 4}+Ar mixtures in different proportions. Working pressure in the chamber is 10{\up\fs8 –1} - 10{\up\fs8 –2} Torr. From the obtained results, the authors determine the time period for establishing of equilibrium substrate temperature at different HF discharge and main heater parameters. HF discharges, in the conditions of this study, at substrate temperatures above 600 °C have virtually no influence on the temperature rise of the substrate. In addition, a new heater is proposed in order to increase the attainable temperature and reduce the time for establishing the equilibrium substrate temperature. A fehral heater can not heat the substrate to temperatures above .